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        1. 新聞詳情
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          快速退火爐的設備說明

          日期:2022-05-09 13:41
          瀏覽次數:63
          摘要:
            快速退火爐是利用鹵素紅外燈做為熱源,通過極快的升溫速率,將晶圓或者材料快速的加熱到300℃-1200℃,從而消除晶圓或者材料內部的一些缺陷,改善產品性能。
            快速退火爐采用先進的微電腦控制系統,采用PID閉環控制溫度,可以達到極高的控溫精度和溫度均勻性,并且可配置真空腔體,也可根據用戶工藝需求配置多路氣體。
            快速退火爐主要由真空腔室、加熱室、進氣系統、真空系統、溫度控制系統、氣冷系統、水冷系統等幾部分組成。
            真空腔室:真空腔室是快速退火爐的工作空間,晶圓在這里進行快速熱處理。
            加熱室:加熱室以多個紅外燈管為加熱元件,以耐高溫合金為框架、高純石英為主體。
            進氣系統:真空腔室尾部有進氣孔,**控制的進氣量用來滿足一些特殊工藝的氣體需求。
            真空系統:在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥,可以有效確保腔室真空度,同時避免氣體倒灌污染腔室內的被處理工件。
            溫度控制系統:溫度控制系統由溫度傳感器、溫度控制器、電力調整器、可編程控制器、PC及各種傳感器等組成。
            氣冷系統:真空腔室的冷卻是通過進氣系統向腔室內充入惰性氣體,來加速冷卻被熱處理的工件,滿足工藝使用要求。
            水冷系統:水冷系統主要包括真空腔室、加熱室、各部位密封圈的冷卻用水。

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