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        1. 產品詳情
          • 產品名稱:離子源電子束蒸發鍍膜儀

          • 產品型號:
          • 產品廠商:成越科儀
          • 產品文檔:
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          簡單介紹:
          該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜
          詳情介紹:

          該電子束蒸發方式鍍膜儀,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜。

          電子束蒸發鍍膜儀設備技術參數

          使用條件

          環境溫度

          5℃~40

          電源

          380V

          功率

          20KW

          水壓

          2.5bar

          真空室尺寸

          蒸發室尺寸

          φ500×H500()

          過渡倉庫

          φ280×H300()

          電子槍

          新型電子槍1套,6穴坩堝

          離子源

          考夫曼離子源K08一套

          樣品轉盤

          樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉,也可上下升降調節樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設計),加熱溫度≤500

          系統真空度

          極限真空

          12~24小時烘烤,連續抽氣5x10-5Pa

           

          抽氣速率

          從大氣開始40分鐘內真空度≤5x10-4Pa

           

          系統漏率

          整機漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關機12小時后,測量真空室真空度≤10Pa

          抽真空系統

          TY1200分子泵+機械泵(VRD-30)系統,并設置旁路抽氣

          鍍膜監測

          采用TM160膜厚儀進行監測

          鍍膜厚度的不均勻度

          ≤3%

          豫公網安備 41019702002438號

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