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        1. 文章詳情
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          真空鍍膜設備的產品特點

          日期:2022-05-19 16:14
          瀏覽次數:202
          摘要:
              真空鍍膜設備,主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

          產品特點

              采用箱式結構,真空系統后置,便于操作和維修;整機表面平整,方便清潔,特別適合放置在凈化間內做穿墻式安裝。

              設備真空系統抽速大,具有抽氣時間短,真空度高,生產周期短等優點。

              采用管狀加熱器上烘烤,烘烤溫度均勻,壽命長,可達到烘烤溫度350℃,烘烤均勻性270℃±10℃。

              工件轉動采用上部中心驅動,軸承帶水冷,磁流體密封,轉動平穩。

              采用石英晶體膜厚控制儀,可實現鍍膜過程的自動控制。

              采用鍍膜控制系統,人機操作界面美觀實用,系統穩定,可實現系統的手動、半自動和全自動操作。

          尊敬的客戶:

            本公司還有快速退火爐、等離子清洗機、磁控濺射鍍膜儀等產品,您可以通過網頁撥打本公司的服務電話了解更多產品的詳細信息,至善至美的服務是我們的追求,歡迎新老客戶放心選購自己心儀產品,我們將竭誠為您服務!

          豫公網安備 41019702002438號

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